Dexop.com – China kembali mencatat sejarah di bidang teknologi semikonduktor dengan meluncurkan Mesin Lithografi E-Beam pertama buatan dalam negeri, bernama Xizhi. Mesin ini dikembangkan oleh Zhejiang University, Hangzhou, sebagai bagian dari strategi besar Beijing dalam mengatasi sanksi teknologi dari Amerika Serikat yang membatasi akses China terhadap mesin litografi canggih buatan luar negeri.
Dengan kemampuan mencetak sirkuit hingga 8 nanometer dan akurasi posisi mencapai 0,6 nm, Mesin Lithografi E-Beam Xizhi menjadi terobosan penting, sekaligus simbol kemandirian China di tengah perang teknologi global.
“Karena kontrol ekspor, peralatan semacam ini lama tidak terjangkau oleh lembaga penelitian domestik, termasuk University of Science and Technology of China dan Zhejiang Lab. Kehadiran Xizhi diharapkan dapat membantu mengatasi kebuntuan ini,” tulis Hangzhou Daily.
Apa Itu Mesin Lithografi E-Beam?
Lithografi adalah proses inti pembuatan chip semikonduktor, di mana pola sirkuit ditransfer ke wafer silikon. Selama ini, ASML asal Belanda memegang monopoli global pada mesin Extreme Ultraviolet (EUV) lithography, yang dibutuhkan untuk memproduksi chip di bawah 7nm.
Namun, akibat sanksi AS, China dilarang mengimpor mesin EUV. Bahkan akses ke teknologi Deep Ultraviolet (DUV) kini juga semakin diperketat. Di sinilah Mesin Lithografi E-Beam hadir sebagai solusi alternatif.
Berbeda dengan EUV/DUV yang menggunakan cahaya, E-Beam lithography memakai berkas elektron untuk menggambar pola chip dengan ketelitian ekstrem.
Keunggulannya:
-
Presisi sangat tinggi, cocok untuk prototyping chip.
-
Lebih murah dibanding mesin impor.
-
Dapat membantu riset desain sebelum produksi massal.
Kekurangannya:
-
Lambat untuk produksi massal dibanding EUV.
-
Belum ideal untuk kebutuhan miliaran chip skala global.
Spesifikasi dan Keunggulan Mesin Lithografi E-Beam Xizhi
Xizhi membawa beberapa fitur unggulan yang membuatnya setara dengan standar internasional:
-
Resolusi: mampu mencetak pola sirkuit hingga 8 nm.
-
Akurasi posisi: 0,6 nm, sesuai standar global.
-
Biaya produksi: jauh lebih murah dibanding mesin EUV impor.
-
Fungsi utama: cocok untuk uji desain chip, penelitian, dan pengembangan awal.
Dengan kemampuan ini, Mesin Lithografi E-Beam Xizhi bisa menjadi “batu loncatan” bagi China untuk mendekati level teknologi EUV.
Strategi China: Dari E-Beam ke EUV Mandiri
Pembuatan Mesin Lithografi E-Beam hanyalah bagian dari strategi jangka panjang China. Beberapa langkah lain yang sedang ditempuh:
-
Huawei – dilaporkan sedang menguji mesin EUV buatan sendiri di pabrik Dongguan, dengan target produksi massal pada 2026.
-
SMIC (Semiconductor Manufacturing International Corporation) – foundry terbesar China, kini sudah mampu memproduksi chip 7nm meski dengan keterbatasan.
-
Kirin 9000S – chip yang dipakai di Huawei Mate 60 Series, diproduksi SMIC dengan teknologi 7nm, menjadi bukti bahwa China bisa berkembang meski di bawah tekanan sanksi.
Jika upaya ini berhasil, China berpotensi memutus ketergantungan pada ASML dan membuka jalan menuju kemandirian penuh di industri semikonduktor.
Dampak Geopolitik: Persaingan Chip AS vs China
Peluncuran Mesin Lithografi E-Beam oleh China tentu tidak bisa dilepaskan dari konteks geopolitik:
-
AS ingin membatasi perkembangan teknologi chip China agar tidak mengancam dominasi Intel, Nvidia, Qualcomm.
-
Belanda (ASML) ditekan AS untuk tidak menjual mesin EUV ke China.
-
China membalas dengan mempercepat riset dalam negeri dan investasi masif di industri semikonduktor.
➡️ Hasilnya, dalam lima tahun terakhir, China naik level dari sekadar pengguna menjadi produsen teknologi inti.
Apakah Mesin Lithografi E-Beam Solusi Jangka Panjang?
Pertanyaan besar yang muncul: apakah Mesin Lithografi E-Beam cukup untuk menggantikan EUV?
-
Jangka Pendek (2025–2026): E-Beam akan sangat berguna untuk riset desain chip, memperkuat laboratorium, dan mengurangi ketergantungan pada alat impor.
-
Jangka Menengah (2027–2030): China menargetkan EUV buatan dalam negeri agar bisa bersaing dengan TSMC, Samsung, Intel.
-
Jangka Panjang (2030 ke atas): E-Beam bisa berevolusi menjadi teknologi hibrida, dipadukan dengan teknik lain untuk mencapai efisiensi produksi massal.
Dengan kata lain, E-Beam lebih tepat disebut sebagai batu loncatan menuju kemandirian penuh.
Perbandingan: E-Beam vs EUV vs DUV
| Teknologi | Resolusi | Kecepatan Produksi | Biaya | Status di China |
|---|---|---|---|---|
| E-Beam | 8nm (Xizhi) | Lambat, cocok riset | Relatif murah | Sudah tersedia (Xizhi) |
| DUV | 28nm–7nm | Sedang, masih dipakai massal | Mahal | Terbatas karena sanksi |
| EUV | <7nm | Cepat, produksi massal | Sangat mahal | Belum bisa diimpor, target 2026 |
➡️ Kesimpulan: E-Beam unggul di presisi, tapi kalah cepat. Namun, sebagai alat riset, E-Beam sangat strategis untuk menutup gap teknologi akibat embargo.
Dampak bagi Industri Semikonduktor Global
-
China: semakin mandiri, mengurangi tekanan sanksi.
-
AS & Sekutu: harus meninjau ulang strategi embargo karena tidak lagi sepenuhnya efektif.
-
Global Supply Chain: potensi persaingan baru antara SMIC + Huawei vs TSMC + Samsung.
-
Investor: peluang besar di sektor semikonduktor China yang kini dipandang sebagai “industri strategis.”
Kesimpulan
Kehadiran Mesin Lithografi E-Beam Xizhi adalah langkah monumental bagi China dalam mengejar kemandirian semikonduktor. Meski belum bisa menggantikan EUV untuk produksi massal, teknologi ini memberi pondasi kuat untuk penelitian, pengembangan, dan percepatan roadmap menuju EUV domestik.
China kini berada di jalur untuk benar-benar menantang dominasi AS, ASML, dan sekutu Barat dalam industri chip. Pertanyaannya tinggal satu: apakah Xizhi akan menjadi sekadar solusi sementara, atau pintu menuju revolusi semikonduktor buatan China sepenuhnya?
